semua Kategori
ENEN
Berita & Acara

Laman Utama /  Berita & Acara

Reka bentuk sistem untuk gas yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor Malaysia

30.2023 Sep.XNUMX

Apabila pasaran semikonduktor berkembang, piawaian untuk ketulenan dan ketepatan menjadi lebih ketat. Salah satu faktor penentu dalam kualiti pembuatan semikonduktor ialah gas yang digunakan dalam proses tersebut. Gas-gas ini memainkan banyak peranan dalam proses pembuatan, termasuk:

Kawalan proses ketepatan

Pencegahan pencemaran

Peningkatan harta logam

Untuk melaksanakan peranan ini dengan berkesan, sistem bekalan dan pengedaran gas mestilah cekap. Reka bentuk sistem pengendalian gas yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor mesti disokong oleh komponen yang teguh dan pemasangan tersuai untuk memastikan pengeluaran semikonduktor yang boleh dipercayai dan berkualiti tinggi.

6

Gas yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor

Proses pembuatan semikonduktor memerlukan penggunaan gas yang berbeza pada peringkat proses yang berbeza.

Walaupun gas biasa seperti nitrogen, hidrogen, argon dan helium boleh digunakan dalam bentuk tulennya, proses tertentu mungkin memerlukan campuran khusus. Silanes atau siloksan, heksafluorida, halida dan hidrokarbon adalah beberapa gas khusus yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor. Kebanyakan gas ini boleh berbahaya atau sangat reaktif, mewujudkan cabaran dalam pemilihan dan reka bentuk komponen untuk sistem gas.

Berikut adalah beberapa contoh:

Hidrogen dan helium boleh bocor dengan mudah daripada sistem paip dan pemasangan kerana saiz dan berat atomnya yang kecil.

Silan sangat mudah terbakar dan boleh terbakar secara spontan (autoignite) di udara.

Nitrogen difluorida yang digunakan dalam peringkat pemendapan, etsa dan pembersihan kebuk menjadi gas rumah hijau yang kuat apabila bocor ke alam sekitar.

Hidrogen fluorida (gas etsa) sangat menghakis kepada paip logam.

Trimethylgallium dan ammonia boleh menjadi sukar untuk dikendalikan - turun naik kecil dalam keperluan suhu dan tekanan boleh menjejaskan proses pemendapan.

Mengawal keadaan proses untuk meminimumkan kesan negatif gas ini mestilah menjadi keutamaan semasa reka bentuk sistem. Sama pentingnya untuk menggunakan komponen berkualiti tinggi seperti injap diafragma AFK semasa proses binaan.

Menangani Cabaran Reka Bentuk Sistem

Gas gred semikonduktor dalam kebanyakan kes mempunyai ketulenan tinggi dan memberikan keadaan lengai atau meningkatkan tindak balas pada peringkat proses pembuatan yang berbeza, seperti gas etsa dan pemendapan. Kebocoran atau pencemaran gas tersebut boleh memberi kesan negatif. Oleh itu, adalah penting bagi komponen sistem yang digunakan untuk dikedap secara hermetik dan tahan kakisan serta mempunyai kemasan permukaan yang licin (penggilap elektrolitik) untuk memastikan tiada kemungkinan pencemaran dan tahap kebersihan yang sangat tinggi dapat dikekalkan.

5

Di samping itu, sesetengah gas ini boleh dipanaskan atau disejukkan untuk mencapai keadaan proses yang diingini. Komponen berpenebat baik memastikan kawalan suhu, yang penting untuk prestasi produk akhir yang cekap.

Dari salur masuk sumber ke tempat penggunaan, rangkaian luas komponen AFK menyokong ketulenan, suhu, tekanan dan kawalan aliran ultra tinggi yang diperlukan dalam bilik bersih semikonduktor dan ruang vakum.

Sistem Direka dengan Komponen Kualiti dalam Fabrik Semikonduktor

Peranan komponen kualiti dan pengoptimuman reka bentuk adalah penting untuk kawalan tepat dan pembuatan semikonduktor yang selamat. Komponen yang digunakan perlu teguh dan bebas bocor untuk dipadankan dengan keadaan proses yang berbeza-beza yang diperlukan pada peringkat pembuatan yang berbeza. Injap, kelengkapan, pengawal selia, paip dan pengedap berkualiti tinggi AFK dicirikan oleh ciri berikut:

Ketulenan ultra tinggi

Pengedap bebas kebocoran

Penebat terkawal suhu

Kawalan tekanan

rintangan kakisan

Rawatan penggilap elektrolitik