Reka bentuk sistem untuk gas yang digunakan dalam pembuatan semiconductor

Sebagai pasaran semikonduktor tumbuh, piawai bagi kepuretan dan kejituan menjadi lebih ketat. Salah satu faktor penentu dalam kualiti pengeluaran semikonduktor adalah gas yang digunakan dalam proses tersebut. Gas-gas ini memainkan banyak peranan dalam proses pengeluaran, termasuk:

Kawalan Proses Ketepatan

Pencegahan pencemaran

Peningkatan sifat metallurgi

Untuk menjalankan peranan ini dengan efektif, sistem bekalan dan taburan gas mesti berkesan. Reka bentuk sistem penanganan gas yang digunakan dalam pengeluaran semikonduktor mesti disokong oleh komponen yang kukuh dan perakitan tersuai untuk memastikan pengeluaran semikonduktor yang boleh dipercayai dan berkualiti tinggi.

Gas yang digunakan dalam pengeluaran semikonduktor

Proses pengeluaran semikonduktor memerlukan penggunaan gas yang berbeza pada peringkat yang berbeza dalam proses tersebut.

Manakala gas umum seperti nitrogen, hidrogen, argon dan helium boleh digunakan dalam bentuk murni mereka, beberapa proses mungkin memerlukan campuran khas. Silanes atau siloxanes, heksafluorida, halida dan hidrokarbon adalah beberapa daripada gas khas yang digunakan dalam pembuatan semiconductor. Banyak daripada gas ini boleh menjadi berbahaya atau sangat reaktif, mencipta cabaran dalam pemilihan dan rekabentuk komponen untuk sistem gas.

Berikut adalah beberapa contoh:

Hidrogen dan helium boleh bocor dengan mudah dari sistem paip dan pemasangan kerana saiz atom dan jisimnya yang kecil.

Silanes sangat mudah terbakar dan boleh menyala secara spontan (autoignition) di udara.

Nitrogen difluorida yang digunakan dalam peringkat penyetapan, pengikisan dan pembersihan bilik menjadi gas rumah hijau yang kuatapabila bocor ke dalam persekitaran.

Hidrogen fluoride (gas pengikisan) sangat kerosak kepada paip logam.

Trimethylgallium dan ammonia boleh sukar ditangani - kelucutan kecil dalam keperluan suhu dan tekanan mereka boleh mempengaruhi proses penyetapan.

Pengawalan keadaan proses untuk meminimumkan kesan negatif gas-gas ini mesti menjadi keutamaan utama semasa reka bentuk sistem. Ia sama pentingnya untuk menggunakan komponen berkualiti tertinggi seperti kawal selap AFK semasa proses pembinaan.

Menyelesaikan Cabaran Reka Bentuk Sistem

Gas peringkat semiconductor dalam kebanyakan kes adalah bersih tinggi dan menyediakan keadaan inert atau meningkatkan tindak balas pada pelbagai peringkat proses pengeluaran, seperti gas etching dan deposition. Penyebaran atau pencemaran gas-gas tersebut boleh menimbulkan kesan negatif. Oleh itu, ia amat kritikal bagi komponen sistem yang digunakan untuk ditutup rapat dan tahan kerosakan serta mempunyai penamat permukaan yang licin (penyucian elektrolitik) untuk memastikan tiada kemungkinan pencemaran dan tahap kebersihan yang sangat tinggi boleh dipertahankan.

Selain itu, beberapa daripada gas ini boleh dipanaskan atau didinginkan untuk mencapai keadaan proses yang dikehendaki. Komponen yang terinsulasi dengan baik memastikan kawalan suhu, yangkritikal untuk prestasi cekap produk akhir.

Dari inlet sumber hingga titik penggunaan, julat luas komponen AFK menyokong kepekatan ultra-tinggi, suhu, tekanan dan kawalan aliran yang diperlukan dalam bilik bersih semikonduktor dan kamar vakum.

Sistem Diseka dengan Komponen Berkualiti dalam Pembuatan Semikonduktor

Peranan komponen berkualiti dan optimum penyelarasan adalah kritikal kepada kawalan tepat dan pembuatan selamat semikonduktor. Komponen yang digunakan perlu bersifat tangguh dan bebas kebocoran untuk menyuai diri dengan syarat proses yang berbeza pada pelbagai peringkat pembuatan. Valv, fitting, regulator, paip, dan bracket penutup berkualiti tinggi AFK ditandai dengan ciri-ciri berikut:

Ketelitian Ultra-Tinggi

Penutupan bebas kebocoran

Insulasi dikawal suhu

Kawalan tekanan

Rintangan Karat

Rawatan poles elektrolit