toate categoriile
ENEN
Știri și evenimente

Acasă /  Știri și evenimente

Proiectarea sistemului pentru gazele utilizate în fabricarea semiconductoarelor România

Septembrie 30.2023

Pe măsură ce piața semiconductoarelor crește, standardele de puritate și precizie devin mai stricte. Unul dintre factorii determinanți în calitatea producției de semiconductori îl reprezintă gazele utilizate în proces. Aceste gaze joacă multe roluri în procesul de fabricație, inclusiv:

Controlul de precizie al procesului

Prevenirea contaminării

Îmbunătățirea proprietăților metalurgice

Pentru a îndeplini aceste roluri în mod eficient, sistemul de alimentare și distribuție a gazelor trebuie să fie eficient. Proiectarea sistemelor de manipulare a gazelor utilizate în fabricarea semiconductoarelor trebuie să fie susținută de componente robuste și ansambluri personalizate pentru a asigura o producție fiabilă și de înaltă calitate a semiconductorilor.

6

Gaze utilizate în fabricarea semiconductoarelor

Procesul de fabricare a semiconductorilor necesită utilizarea diferitelor gaze în diferite etape ale procesului.

În timp ce gazele comune, cum ar fi azotul, hidrogenul, argonul și heliul pot fi utilizate în forma lor pură, anumite procese pot necesita amestecuri specializate. Silanii sau siloxanii, hexafluorurile, halogenurile și hidrocarburile sunt câteva dintre gazele de specialitate utilizate în fabricarea semiconductoarelor. Multe dintre aceste gaze pot fi periculoase sau foarte reactive, creând provocări în selectarea și proiectarea componentelor pentru sistemele de gaze.

Iată câteva exemple:

Hidrogenul și heliul se pot scurge cu ușurință din sistemele de conducte și fiting datorită dimensiunii și greutății atomice mici.

Silanii sunt foarte inflamabili și se pot arde spontan (autoaprinde) în aer.

Difluorura de azot utilizată în etapele de depunere, gravare și curățare a camerei devine un gaz cu efect de seră puternic atunci când se scurge în mediu.

Fluorura de hidrogen (gaz de gravare) este foarte corozivă pentru conductele metalice.

Trimetilgaliul și amoniacul pot fi dificil de manevrat - mici fluctuații ale cerințelor lor de temperatură și presiune pot afecta procesul de depunere.

Controlul condițiilor de proces pentru a minimiza efectele negative ale acestor gaze trebuie să fie o prioritate maximă în timpul proiectării sistemului. Este la fel de important să folosiți componente de cea mai înaltă calitate, cum ar fi supapele cu diafragmă AFK, în timpul procesului de construcție.

Abordarea provocărilor de proiectare a sistemului

Gazele de calitate semiconductoare sunt în majoritatea cazurilor de înaltă puritate și oferă condiții inerte sau îmbunătățesc reacțiile la diferite etape ale procesului de fabricație, cum ar fi gazele de gravare și depunere. Scurgerile sau contaminarea unor astfel de gaze pot avea efecte negative. Prin urmare, este esențial ca componentele sistemului utilizate să fie sigilate ermetic și rezistente la coroziune, precum și să aibă un finisaj neted al suprafeței (lustruire electrolitică) pentru a se asigura că nu există nicio posibilitate de contaminare și că poate fi menținut un nivel extrem de ridicat de curățenie.

5

În plus, unele dintre aceste gaze pot fi încălzite sau răcite pentru a atinge condițiile de proces dorite. Componentele bine izolate asigură controlul temperaturii, care este esențial pentru performanța eficientă a produsului final.

De la intrarea sursei până la punctul de utilizare, gama largă de componente AFK suportă controlul ultra-înalt de puritate, temperatură, presiune și debit necesar în camerele curate cu semiconductori și camerele de vid.

Sisteme proiectate cu componente de calitate în fabrici de semiconductori

Rolul componentelor de calitate și al optimizării designului este esențial pentru controlul precis și fabricarea în siguranță a semiconductorilor. Componentele utilizate trebuie să fie robuste și fără scurgeri pentru a se potrivi cu diferitele condiții de proces necesare în diferite etape ale producției. Supapele, fitingurile, regulatoarele, conductele și suporturile de etanșare de înaltă calitate AFK sunt caracterizate de următoarele caracteristici:

Puritate ultra-înaltă

Garnituri fără scurgeri

Izolație controlată cu temperatură

Controlul presiunii

Rezistență la coroziune

Tratament de lustruire electrolitică