Verspreiding van ultra-hoogreinheidsgase in halwiconductorvervaardiging!

Ultra-hoogreinheid gase is essentieel deur die hele halwiconductorvoorsieningsketting. As feit, vir 'n tipiese fabrikasie, is hoë-reinheid gase die grootste materiaalkosten na silicon self. In die kielwater van die wêreldwye chip tekort, brei die bedryf vinniger uit as ooit tevore - en die vraag na hoë-reinheid gase neem toe.

Die mees algemeen gebruikte bulk gase in halwiconductorvervaardiging is stikstof, helium, waterstof en argon.

Stikstof

Stikstof maak 78% van ons atmosfeer uit en is baie ryklik. Dit is ook chemies inert en nie-leier. As gevolg hiervan het stikstof sy pad gevind in 'n aantal bedrywe as 'n koste-effektiewe inert gas.

Die halwiconductorbedryf is 'n groot verbruiker van stikstof. 'n Moderne halwiconductorvervaardigingsaanleg word verwag om tot 50,000 kubieke meter stikstof per uur te gebruik. In halwiconductorvervaardiging funksioneer stikstof as 'n algemene inert- en purgeringsgas, wat sensitiewe silicon plaatjies beskerm teen reaktiewe suurstof en vochtigheid in die lug.

Helium

Helium is 'n inerte gas. Dit beteken dat, soos stikstof, helium chemies inerte is - maar dit het ook die byvoegende voordeel van hoë termiese geleiheid. Dit is veral nuttig in halwgeleiersvervaardiging, wat dit kan laat toe om doeltreffend hitte weg te lei van hoë-energie prosesse en hul te beskerm teen termiese skade en ongewenste chemiese reaksies.

Hidrogien

Waterstof word uitgebreid deur die elektronika-vervaardigingsproses gebruik, en halwgeleiersproduksie is geen uitsondering nie. In besonder word waterstof gebruik vir:

Aanwas: Silisiumwafers word tipies tot hoë temperature verhit en stadig gekoel om die kristalstruktuur te herstel (aanwas). Waterstof word gebruik om hitte gelykmatig aan die waffer oor te dra en om te help met die herbou van die kristalstruktuur.

Epitaksië: Ultra-hoë reinheid waterstof word as 'n reducerende agente in die epitaksiale afsetting van halwgeleiersmateriaal soos silisium en germanium gebruik.

Deposisie: Waterstof kan in silikiumvliesse ingedop word om hul atoomstruktuur minder geordend te maak, wat help om weerstandskrag te verhoog.

Plasma-reiniging: Waterstofplasma is spesial effektief in die verwydering van tinverontreiniging van ligbronne wat in UV-litografie gebruik word.

Argon

Argon is 'n ander edelgas, so vertoon dit dieselfde lae reaksievaardigheid as stikstof en helium. Almal, argon se lae ionisasie-energie maak dit nuttig in halwegeleiers-toepassings. Vanweë sy relatiewe maklikheid om geïoniseer te word, word argon algemeen as die primêre plasma-gas vir etser- en deposisieraeaksies in halwegeleiers-vervaardiging gebruik. Boonop word argon ook in excimer-lasers vir UV-litografie gebruik.

Hoekom suiwerheid belangrik is

Tipies word vooruitgang in halwegeleierstegnologie bereik deur grootte-skaling, en die nuwe generasie van halwegeleierstegnologie word gekenmerk deur kleiner kenmerkgroottes. Dit lewer vele voordele: meer transistore in 'n gegewe volume, verbeterde strome, lager kragverbruik en vinniger skakeling.

Egter, soos die kritieke grootte afneem, word halwegeleiersinne steeds meer geraffineer. In 'n wêreld waar die posisie van individuele atome belangrik is, is fout toleransie drempels baie strak. As gevolg hiervan vereis moderne halwegeleierprosesse prosesgasse met die hoogste moontlike reinheid.

WOFLY is 'n hoëtegnologieonderneming wat spesialiseer in gas-toepassingsstelsel ingenieurswese: elektroniese spesiale gasstelsel, laboratoriumgasroosterstelsel, industriële sentrale gasverskaffingstelsel, bulk-gas (vloeistof) stelsel, hoogreinheidsgas en spesiale prosesgas tweede buisstelsel, chemiese afleweringstelsel, suiwerwaterstelsel om 'n volledige stel ingenieurs- en tegnologiese dienste en bykomende produkte te bied vanaf tegniese raadgewing, algehele beplanning, stelselontwerp, toerustingseleksie, voorfabrikasie van komponente, die installasie en bou van die projektereing, algehele stelseltoetsing, onderhoud en ander bykomende produkte op 'n geïntegreerde wyse.