Popularisering van ultrahoë suiwer gasse in halfgeleiervervaardiging!

Ultrahoë suiwer gasse is noodsaaklik deur die halfgeleiervoorsieningsketting. Trouens, vir 'n tipiese fabriek is gasse met hoë suiwerheid die grootste materiaaluitgawe naas silikon self. In die nasleep van die wêreldwye skyfietekort brei die bedryf vinniger as ooit uit – en die vraag na hoësuiwer gasse neem toe.

Die mees algemeen gebruikte grootmaatgasse in halfgeleiervervaardiging is stikstof, helium, waterstof en argon.

Stikstof

Stikstof maak 78% van ons atmosfeer uit en is uiters volop. Dit is ook toevallig chemies inert en nie-geleidend. Gevolglik het stikstof sy weg gevind in 'n aantal nywerhede as 'n koste-effektiewe inerte gas.

Die halfgeleierbedryf is 'n groot verbruiker van stikstof. ’n Moderne halfgeleiervervaardigingsaanleg sal na verwagting tot 50,000 XNUMX kubieke meter stikstof per uur gebruik. In halfgeleiervervaardiging dien stikstof as 'n algemene doel inerte en suiwerende gas, wat sensitiewe silikonwafels beskerm teen reaktiewe suurstof en vog in die lug.

Helium

Helium is 'n inerte gas. Dit beteken dat, soos stikstof, helium chemies inert is - maar dit het ook die bykomende voordeel van hoë termiese geleidingsvermoë. Dit is veral nuttig in halfgeleiervervaardiging, wat dit toelaat om hitte doeltreffend weg te lei van hoë-energie prosesse en te help beskerm teen termiese skade en ongewenste chemiese reaksies.

Waterstof

Waterstof word wyd gebruik deur die elektroniese vervaardigingsproses, en halfgeleierproduksie is geen uitsondering nie. In die besonder word waterstof gebruik vir:

Uitgloeiing: Silikonwafels word tipies tot hoë temperature verhit en stadig afgekoel om die kristalstruktuur te herstel (uitgloei). Waterstof word gebruik om hitte eweredig na die wafer oor te dra en om die kristalstruktuur te help herbou.

Epitaksie: Waterstof met ultrahoë suiwerheid word gebruik as 'n reduseermiddel in die epitaksiale afsetting van halfgeleiermateriale soos silikon en germanium.

Afsetting: Waterstof kan in silikonfilms gedoteer word om hul atoomstruktuur meer wanordelik te maak, wat help om weerstand te verhoog.

Plasma-skoonmaak: Waterstofplasma is veral effektief om tinkontaminasie te verwyder van ligbronne wat in UV-litografie gebruik word.

argon

Argon is nog 'n edelgas, so dit vertoon dieselfde lae reaktiwiteit as stikstof en helium. Argon se lae ionisasie-energie maak dit egter nuttig in halfgeleiertoepassings. As gevolg van die relatiewe gemak van ionisasie, word argon algemeen gebruik as die primêre plasmagas vir ets- en afsettingsreaksies in halfgeleiervervaardiging. Hierbenewens word argon ook in eksimerlasers vir UV-litografie gebruik.

Waarom reinheid saak maak

Tipies is vooruitgang in halfgeleiertegnologie bereik deur grootteskaal, en die nuwe generasie halfgeleiertegnologie word gekenmerk deur kleiner kenmerkgroottes. Dit lewer verskeie voordele op: meer transistors in 'n gegewe volume, verbeterde strome, laer kragverbruik en vinniger skakeling.

Namate die kritieke grootte egter afneem, word halfgeleiertoestelle al hoe meer gesofistikeerd. In 'n wêreld waar die posisie van individuele atome saak maak, is fouttoleransiedrempels baie streng. Gevolglik vereis moderne halfgeleierprosesse prosesgasse met die hoogste moontlike suiwerheid.

WOFLY is 'n hoë-tegnologie onderneming wat spesialiseer in gastoepassingstelselingenieurswese: elektroniese spesiale gasstelsel, laboratoriumgaskringstelsel, industriële gesentraliseerde gastoevoerstelsel, grootmaatgas (vloeistof) stelsel, hoë suiwer gas en spesiale proses gas sekondêre pypstelsel, chemiese aflewering stelsel, suiwer waterstelsel om 'n volledige stel ingenieurs- en tegniese dienste en bykomende produkte te verskaf van die tegniese konsultasie, algehele beplanning, stelselontwerp, die keuse van die toerusting, voorafvervaardigde komponente, die installering en konstruksie van die projekterrein, die algehele stelseltoetsing, onderhoud en ander ondersteunende produkte op 'n geïntegreerde wyse.